產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
該區(qū)域提純爐主由：高溫梯度爐、真空爐管、真空法蘭、電子真空計、質量流量計、分子泵組、直線導軌、速度控制器等重要部件構成。區(qū)域提純爐廣泛用于半導體鍺、硅提純還可以用于金屬、金屬間化合物提純。
詳情介紹：
該區(qū)域提純爐主要由：高溫梯度爐、真空爐管、真空法蘭、電子真空計、質量流量計、分子泵組、直線導軌、速度控制器等重要部件構成。廣泛用于半導體鍺、硅提純還可以用于金屬、金屬間化合物提純。
主要技術參數(shù)：
工作溫度：1200℃
爐管長度：1200mm
爐管直徑：50mmm
爐管厚度：5mm
密封方式：不銹鋼真空法蘭
真空度：1.0X10E-3Pa
流量計類型：質量流量計
氣體流量：100SCCM、200SCCM、500SCCM
載料舟長度：200mm
移動速度：160mm/60min（可根據(jù)實際要求調(diào)節(jié)）
溫度控制：50段可編程控制
控制系統(tǒng)：全電腦程序控制
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