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產品詳情
  • 產品名稱:CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)

  • 產品型號:CY-MS
  • 產品廠商:成越科儀
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)升級后,可達到5室結構進樣室、三個獨立的濺射室、出樣室;增加射頻電源,提供制備介質膜的功能,并能實現(xiàn)連續(xù)鍍膜。
詳情介紹:

CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)設備用途:

用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜(Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等),并能夠實現(xiàn)反應濺射,可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝,具備較大尺寸和多種尺寸規(guī)格的晶體硅光伏電池薄膜的連續(xù)制備能力。

CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)技術參數:

型號

CY-in-line

主濺真空室

方形真空室,尺寸? 1000×700×350mm

進樣室

圓筒型,臥室,尺寸? 250×420mm

真空系統(tǒng)配置

分子泵與機械泵,閘板閥

極限壓力

主濺射室

≦8*10-5Pa(經烘烤除氣后)

進樣室

≦6.6*10-4Pa(經烘烤除氣后)

恢復真空時間

主濺射室

40分鐘可達到6.6*10-4Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)

進樣室

40分鐘可達到6.6*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)

磁控靶組件

矩形靶尺寸約450*45mm;靶與樣品距離80mm可調

 

基片加熱臺

基片結構

尺寸125*125mm或156*156mm,可一次安裝4片樣品

加熱溫度

室溫~400C±2  C,可控可調

氣路系統(tǒng)

質量流量控制器3路

設備占地面積

主機

2655 * 930mm2

電控柜

700 *700mm2(兩個)

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